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淺談氨逃逸形成的原因與控制
淺談氨逃逸形成的原因與控制
隨著社會的發(fā)展,環(huán)保問題越來越重視,NOx的排放標準也提到新的高度,但是脫硝投入以來帶來不少問題,針對氨逃逸高這一問題進行探討和分析,本人主要結合工作中的經歷來探討氨逃逸在運行中的控制方法,以期對鍋爐設備安全和經濟效益的提高有所幫助。
一、概述
C鍋爐設計產汽能力220t/h,產出的9.80MPa(G)、540℃的過熱蒸汽,2014年3月新建聯合脫硝系統(tǒng),包括低氮燃燒系統(tǒng),SNCR和SCR系統(tǒng),通過SCR后NOx≤100mg/Nm3,氨逃逸≤5ppm,因環(huán)保要求日益嚴格,控制NOx≤65mg/Nm3,造成氨逃逸高于設計指標,嚴重影響鍋爐健康運行,因氨逃逸高,影響電場放電,造成鍋爐輸灰不暢,停爐期間檢查鍋爐空預器有不同程度腐蝕和堵塞。
pH做為基本的污水指標,勢必成為供求的熱點,這對廣大的E-1312 pH電極制造商,比如美國BroadleyJames來說是個重大利好。美國BroadleyJames做為老牌的E-1312 pH電極制造商,必將為中國的環(huán)保事業(yè)帶來可觀的經濟效益。我們美國BroadleyJames生產的E-1312 pH電極經久耐用,質量可靠,測試準確,廣泛應用于各級環(huán)保污水監(jiān)測以及污水處理過程。
二、氨逃逸高的原因
氨逃逸是影響SCR系統(tǒng)運行的一項重要參數,實際生產過程中通常是多于理論量的氨到達反應器,反應后在煙氣下游多余的氨稱為氨逃逸,氨逃逸是通過單位體積內氨含量來表示的。為了達到環(huán)保要求,往往需要一定過量的氨,所以也對應著會有一個合適的氨逃逸值,該值設計為不大于5ppm,但是往往實際運行中偏大,主要有以下因素:
(1)每只氨噴槍噴氨流量分布不均,煙氣中存在氨水局部分布不均,煙氣流速不均勻,各噴槍出口的噴氨量差異較大,濃度高的地方氨逃逸相對高一些。
(2)煙氣溫度,反應溫度過低,NOx與氨的反應速率降低,會造成NH?的大量逃逸,但是,反應溫度過高,氨又會額外生成NO,所以,NH?存在最佳的反應溫度,在SNCR氨的最佳反應溫度800-1100℃;SCR反應器是以活性成分為WO3和V2O5為催化劑蜂窩裝模塊,還原劑為來自上游SNCR系統(tǒng)的氨逃逸作為還原劑,在催化劑的作用下,氨水與NOx在315~380℃的溫度區(qū)間內反應,生成氮氣和水,達到脫硝的目的,如果溫度過高過低達不到反應效果,勢必增加氨逃逸。
(3)催化劑堵塞,脫硝效率下降,為了保持環(huán)保參數不超標,會噴更多的氨,這將引起惡性循環(huán),催化劑局部堵塞、性能老化,導致催化劑各處催化效率不同,為了控制出口參數,只能增加噴氨量,從而導致局部氨逃逸升高。
(4)霧化風量偏小,噴槍霧化不好,氨水與煙氣不能充分混合,將產生大量的氨逃逸。
(5)氨水濃度,氨水濃度配置,濃度高低無法受控,憑著感覺配置,就目前C鍋爐而言,基本上氨水濃度高,氨水調閥開度過小,霧化不好易自關,導致氨逃逸高,操作難度大。
(6)燃燒波動時,SNCR入口煙氣中的NOX濃度大幅波動,往往會加大噴氨量,機械地實現“達標排放",過量的氨水,可導致氨逃逸增加,直接危及爐后設備和系統(tǒng)安全運行。
氨逃逸的控制
(1)對于噴氨流量分布不均造成的氨逃逸偏差,可以通過調整氨水噴槍前的球閥控制,在平時操作中盡可能使旋轉噴槍槍頭朝下,增加反應時間,每只槍噴氨分布均勻(其操作看壓力降),NH?與NO充分反應,降低NH?/NO摩爾比,從而降低氨逃逸,達到脫硝效率與運行費用的平衡。
氨逃逸濃度增加還與氨水噴槍噴嘴密切相關,當氨水噴槍噴嘴堵塞時將加劇逃逸氨的產生,應在鍋爐運行過程中檢查氨水噴槍,及時疏通或更換,確保氨水噴槍正常投運。